Существующие самоочищающиеся краски, при наличии света, могут самостоятельно удалять с поверхности нежелательные загрязнения. Однако, такая очистка не выборочна, и в дополнении с загрязняющими агентами, увеличиваются вероятность нарушения полимерной матрицы. Поэтому, ученые из Бразилии и Португалии начали разработку подходящей рецептуры самоочищающегося покрытия, для которого требуется баланс между неселективностью и разрушением пленки.